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2- und 4-Spiegel-IR-Ofen zur Erzeugung von Einkristallen

Von Quantum Design

Diese 2 und 4 Spiegel Infrarot-Öfen bietet eine unkomplizierte Möglichkeit der Herstellung von Einkristallen in Ihrem Labor. Er nutzt das Schmelzzonenverfahren, um aus polykristallinen Stäben Einkristalle zu erzeugen. Der Ofen verbindet eine kompakte Bauweise mit hoher Wirtschaftlichkeit und hoher Anwenderfreundlichkeit und eignet sich für ein breites Spektrum von Materialien.

Eigenschaften
  • Einfache Herstellung von Einkristallen
  • Geeignet für eine Vielzahl von Materialien
  • Kompakte Größe
  • Effiziente Ausführung mit 2 Spiegeln und 4 Spiegeln
  • Keine externe Kühlung erforderlich

Weitere Informationen

Dieser Hochleistungs-IR-Ofen von Quantum Design bietet eine einzigartige Leistungsfähigkeit in einem praktischen und kompakten Gerät. Anders als viele wesentlich größere und kostspieligere IR-Öfen arbeitet er nach dem Schmelzzonenverfahren, das sich bereits bei einer breiten Palette von Materialien als extrem effektiv erwiesen hat. Damit können hochqualitative Einkristallproben im Labor noch einfacher hergestellt werden. Zwei IR-Lampen werden mittels zweier Spiegel auf den polykristallinen Vorläufer fokussiert und erzeugen hohe Temperaturen mit ausgezeichneter Stabilität Durch den Zwei-Spiegel-Aufbau wird die Gefahr mehrerer unerwünschter Schmelzzonen verringert. Bei den Lampen handelt es sich um Standardlampen, die kostengünstig und einfach ersetzt werden können. Der IR-Ofen arbeitet mit einem geschlossenen Wasserkühlkreislauf, der externe Wasserversorgung unnötig macht.

Spezifikation

Anzahl der Lampen

2 oder 4

Typ

Halogenlampe

Leistung

650 W max. jede

Lampenkühlung

integriertes Luftgebläse

Lampenleistungsstabilität

0,01 V

Temperatur

2100 ° C (im 4mm Schmelzzonenbereich)

Max. Kristalldurchmesser

6 mm

Systemkühlung

integrierte Wasserkühlung mit geschlossenem Kreislauf

Kristallwachstumsgeschwindigkeit

0,1 - 1,4 mm / h oder 1-14 mm / h (andere Bereiche auf Anfrage)

Max. Kristalllänge

100 mm

Max. Geschwindigkeit

20 mm / min

Max. Druck

1 MPa

Gesamtgröße des Ofens

80 cm x 90 cm x 179 cm (B x L x H)

Ofengewicht

400 kg

Eingangsspannung

200 - 240 V, 15 A, einphasig

Anwendungen

Hochtemperatur-Supraleiter
Dielektrische und magnetische Materialien
Intermetallics
Metallverbindungen
Halbleiter
Optische Kristalle
Edelsteine

Downloads

4 mirror IR image furnace specifications
4 mirror IR image furnace specifications
2 mirrror furnace for crystal fabrification specifications
2 mirrror furnace for crystal fabrification specifications

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Dr. Tobias Adler
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64293 Darmstadt
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Tobias AdlerProdukt Manager - Kryotechnologie & Materialwissenschaften
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