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Photo Lithographie Systeme

MicroWriter von Durham Magneto Optics (DMO)

Der MicroWriter 3 Pro stellt die neueste Entwicklung unseres langjährigen Lieferanten Durham Magneto Optics (DMO) dar. Er vereint alle Ansprüche die man an ein Photo-Lithographie-System stellt in Kombination mit einem sehr guten Preis-Leistungsverhältnis.

Mit dem MicroWriter Baby stellt DMO eine neue Art von Photo-Lithographie-System vor. Es vereint ein breites Spektrum an Möglichkeiten mit einem unschlagbaren Preis. Es ist klein, leistungsstark und sehr einfach zu bedienen.

Eigenschaften
  • Hohe Auflösung
  • Schnelle Schreibgeschwindigkeit
  • Einfache Handhabung
  • Kosteneffektiv
  • Flexible Konfiguration

Weitere Informationen

In der Basisversion verfügt der MicroWriter 3 Pro über eine 385 nm Photodiode, welche für g-, h- und i-Line Resists (Positiv und Negativ und auch SU-8) verwendet werden kann. Der Benutzer kann schnell und einfach per Software zwischen vier Auflösungen wählen: (0.6 µm, 1 µm, 2 µm und 5 µm). Optional steht noch eine Auflösung von 0.4 µm zur Verfügung. Außerdem verfügt der MicroWriter 3 Pro über ein optisches Profilometer und ein automatisiertes Wafer Inspektionstool.

Als zusätzliche Option kann zusätzlich eine 405 nm oder 365 nm Photodiode eingebaut werden sowie eine Backside Alignment Option.

Das Baby, das Baby plus und das Mesa System werden standardmäßig mit einer 405 nm Photodiode bestückt. Diese kann gegen eine 385 nm oder 365 nm Diode ausgetauscht werden.

Jedes der Systeme kann zu einem späteren Zeitpunkt auf das nächste Level aufgerüstet werden was die MicoWriter Familie zu der flexibelsten Plattform für Direktschreib-Lithographie Systeme macht.

Spezifikation

Microwriter SpecificationML3 BabyML3 Baby PlusML3 MesaML3 Pro
Maximum substrate size [mm]155 x 155 x 7155 x 155 x 7155 x 155 x 7230 x 230 x 15
Maximum writing area [mm]149 x 149149 x 149149 x 149195 x 195
Exposure resolutions [µm]11 and 50.6, 1, 50.6, 1, 2, 5 (0.4 as option)
Surface tracking autofocus systemYesYesYesYes
Greyscale lithographyYesYesYesYes
Alignment microscope objectivesx10x3 and x10x3, x10, x20x3, x5, x10, x20 (x50 as option)
Automatic lens changer for exposure resolution and alignment microscopeNoYesYesYes
Backside alignmentNoNoNoAvailable as option
Exposure wavelength [nm]405 (385 and 365 as option)405 (385 and 365 as option)405 (385 and 365 as option)385 (365 nm as option)
Maximum writing speed50 mm2/minute at 1 µm50 mm2/minute at 1 µm 180 mm2/minute at 5 µm17 mm2/minute at 0.6 μm, 50 mm2/minute at 1 μm 180 mm2/minute at 5 μm17 mm2/minute at 0,6 µm, 50 mm2/minute at 1 µm, 120 mm2/minute at 2 µm , 180 mm2/minute at 5 µm
Overlay alignment accuracy at best resolution [µm]±2±1±1±0,5
Minimum addressable grid [nm]200200100100
Motion stage minimum XY step size [nm]1515154
Optical surface profiler Z resolution [nm]not applicalble200200100
Automatic wafer inspection toolNoYesYesYes
Virtual mask aligner toolNoAvailable as optionAvailable as optionYes
Temperature stabilized enclosureNoAvailable as optionAvailable as optionYes
Supplied with vibration isolating optical tableNoNoNoYes
Mask design softwareOpen source KLayout supplied. Clewin available as optionOpen source KLayout supplied. Clewin available as optionOpen source KLayout supplied. Clewin available as optionClewin supplied
Can be upgraded?YesYesYesNo

Anwendungen

Mikroelektronik und Halbleiter
Spintronics
MEMS / NEMS
Sensoren
Microfluidics und lab-on-a-chip
Nanotechnologie
Materialwissenschaften
Graphen und andere 2-dimensionale Materialien
Laden und Schreiben Video: Laden und Schreiben
Entwickeln und Obersivieren Video: Entwickeln und Obersivieren

Downloads

MicroWriter ML 3 family overview
MicroWriter ML 3 family overview
MicroWriter ML 3 Pro
MicroWriter ML 3 Pro
MicroWriter ML 3 Baby
MicroWriter ML 3 Baby
MicroWriter ML 3 Baby Plus
MicroWriter ML 3 Baby Plus
MicroWriter ML 3 Mesa
MicroWriter ML 3 Mesa

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Dr. Andreas Bergner
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Andreas BergnerProdukt Manager - Elektronenmikroskopie & Nanotechnologie
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