Der MicroWriter – Leistungsstarke Photolithographie

Durham Magneto Optics entwickelt schon seit über 10 Jahren kostengünstige und leistungsstarke, direktschrei­bende Lithographiesystem. Die neueste Gerätegeneration orientiert sich dabei an der Geschwindigkeit eines klassischen „Mask Aligner“-Sys­tems und kombiniert diese mit der Flexibilität eines direktschreibenden Photolithographiesystems.  Kernstück unseres MikroWriter Systems ist dabei die „Display Unit“ welche ähnlich der Maske eines „Mask Aligners“ funktioniert. Die zu schreibenden Strukturen werden hier allerdings digital am Rechner erzeugt und können so flexibel und individuell erstellt werden. In Kombination mit unterschiedlichen Auflösungen (0,6 µm, 1 µm, 2 µm und 5 µm) können wir Schnelligkeit mit hoher Auflösung in einem System realisieren. Mögliche Anwendungsgebiete dieses System sind:

  • Mikroelektronik und Halbleiterforschung
  • Spintronik
  • MEMS/NEMS
  • Sensoren
  • Mikrofluidik
  • Lab-on-a-chip
  • Nanotechnologie
  • Materialwissenschaften
  • Graphenforschung

Es können Schreibgeschwindigkeiten von 180 mm²/Minute erreicht werden und Überlagerungsgenauigkeiten von ±0,5 µm für mehrschrittige Belichtungsprozesse. Die Kanten­rauigkeit der geschrieben Strukturen liegt typischerweise bei 30 nm RMS (siehe Abbildung 1).

Unser System verfügt über die Möglichkeit, automatisch Bezugspunkte auf der Substratober­fläche zu erfassen, sowie über den sogenannten „Virtual Mask Aligner“-Modus. Dieser Modus ist hilfreich beim Aufbringen von Kon­takt­punkten auf Mate­rialien die sich bereits auf der Substratoberfläche befinden. Abbil­dungen 2 und 3 zeigen hier exemplarisch die Mög­lichkeiten.

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