Der neue Dual-Wavelength-MicroWriter – Optische Nano- und Mikro-Fotolithografie für hohe Ansprüche
Unser Lieferant DMO stellt mit der Dual-Wavelength-Option ein maßgeschneidertes System vor, welches sich an Lithografie-Labore richtet, die sowohl mit UV-Lacken als auch mit g- und h-Linien Lacken arbeiten. Jedes der vier Systeme der Micro-Writer 3-Familie, das Baby, Baby Plus, Mesa und das Flaggschiff, der MicroWriter 3 Pro, kann nun mit zwei unterschiedlichen Wellenlängen bestückt werden. Zur Auswahl stehen dabei Fotodioden mit einer Wellenlänge von 365 nm, 385 nm oder 405 nm. Die jeweilige Wellenlänge wird dabei einfach über die Software für den jeweiligen Schreibprozess ausgewählt. Der Anwender muss hierbei keinerlei Änderungen an der Hardware vornehmen.
Dies ist in Kombination mit der Multiproben-Funktion des MicroWriters ein äußerst leistungsfähiger Ansatz, um das Arbeiten mit unterschiedlichen Benutzeranforderungen zu erleichtern. So kann der Micro-
Writer mit den verschiedensten Proben bestückt werden, wobei jeder einzelnen Probe ihr eigener Schreibprozess zugeordnet wird. So sind vollautomatisch mehrere zeitintensive Schreibprozesse über das Wochenende, ohne Anwenderinteraktion möglich.
Die Dual-Wavelength-Option kann auch als Upgrade für alle MicroWriter Modelle der 3. Generation nachgerüstet werden.
