Sputter & carbon coaters
Gli Sputter e i Carbon Coaters vengono utilizzati per depositare un sottile strato di metallo o carbonio sulla superficie di un substrato. Lo sputtering viene utilizzato nella microscopia elettronica per depositare un film elettricamente conduttivo su superfici non conduttive, al fine di impedire che gli elettroni del fascio elettronico del microscopio si accumulino sulla superficie del campione, ...
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Gli Sputter e i Carbon Coaters vengono utilizzati per depositare un sottile strato di metallo o carbonio sulla superficie di un substrato. Lo sputtering viene utilizzato nella microscopia elettronica per depositare un film elettricamente conduttivo su superfici non conduttive, al fine di impedire che gli elettroni del fascio elettronico del microscopio si accumulino sulla superficie del campione, causandone la carica. Tale carica impedirebbe la visualizzazione di queste superfici con il SEM. I film desiderati devono essere estremamente sottili, ma elettricamente conduttivi, con uno spessore compreso tra 2 e 20 nm. Il carbonio viene utilizzato per l'analisi EDS e WDS a causa del basso assorbimento dei raggi X e per creare film di supporto per il TEM.
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