Photo Lithographie Systeme

MicroWriter von Durham Magneto Optics (DMO)

Der MicroWriter 3 Pro stellt die neueste Entwicklung unseres langjährigen Lieferanten Durham Magneto Optics (DMO) dar. Er vereint alle Ansprüche die man an ein Photo-Lithographie-System stellt in Kombination mit einem sehr guten Preis-Leistungsverhältnis.

Mit dem MicroWriter Baby stellt DMO eine neue Art von Photo-Lithographie-System vor. Es vereint ein breites Spektrum an Möglichkeiten mit einem unschlagbaren Preis. Es ist klein, leistungsstark und sehr einfach zu bedienen.

Eigenschaften
  • Hohe Auflösung
  • Schnelle Schreibgeschwindigkeit
  • Einfache Handhabung
  • Kosteneffektiv
  • Flexible Konfiguration

Weitere Informationen

In der Basisversion verfügt der MicroWriter 3 Pro über eine 385 nm Photodiode, welche für g-, h- und i-Line Resists (Positiv und Negativ und auch SU-8) verwendet werden kann. Der Benutzer kann schnell und einfach per Software zwischen vier Auflösungen wählen: (0.6 µm, 1 µm, 2 µm und 5 µm). Optional steht noch eine Auflösung von 0.4 µm zur Verfügung. Außerdem verfügt der MicroWriter 3 Pro über ein optisches Profilometer und ein automatisiertes Wafer Inspektionstool.

Als zusätzliche Option kann zusätzlich eine 405 nm oder 365 nm Photodiode eingebaut werden sowie eine Backside Alignment Option.

Das Baby, das Baby plus und das Mesa System werden standardmäßig mit einer 405 nm Photodiode bestückt. Diese kann gegen eine 385 nm oder 365 nm Diode ausgetauscht werden.

Jedes der Systeme kann zu einem späteren Zeitpunkt auf das nächste Level aufgerüstet werden was die MicoWriter Familie zu der flexibelsten Plattform für Direktschreib-Lithographie Systeme macht.

Spezifikation

Microwriter Specification ML3 Baby ML3 Baby Plus ML3 Mesa ML3 Pro
Maximum substrate size [mm] 155 x 155 x 7 155 x 155 x 7 155 x 155 x 7 230 x 230 x 15
Maximum writing area [mm] 149 x 149 149 x 149 149 x 149 195 x 195
Exposure resolutions [µm] 1 1 and 5 0.6, 1, 5 0.6, 1, 2, 5 (0.4 as option)
Surface tracking autofocus system Yes Yes Yes Yes
Greyscale lithography Yes Yes Yes Yes
Alignment microscope objectives x10 x3 and x10 x3, x10, x20 x3, x5, x10, x20 (x50 as option)
Automatic lens changer for exposure resolution and alignment microscope No Yes Yes Yes
Backside alignment No No No Available as option
Exposure wavelength [nm] 405 (385 and 365 as option) 405 (385 and 365 as option) 405 (385 and 365 as option) 385 (365 nm as option)
Maximum writing speed 50 mm2/minute at 1 µm 50 mm2/minute at 1 µm 180 mm2/minute at 5 µm 17 mm2/minute at 0.6 μm, 50 mm2/minute at 1 μm 180 mm2/minute at 5 μm 17 mm2/minute at 0,6 µm, 50 mm2/minute at 1 µm, 120 mm2/minute at 2 µm , 180 mm2/minute at 5 µm
Overlay alignment accuracy at best resolution [µm] ±2 ±1 ±1 ±0,5
Minimum addressable grid [nm] 200 200 100 100
Motion stage minimum XY step size [nm] 15 15 15 4
Optical surface profiler Z resolution [nm] not applicalble 200 200 100
Automatic wafer inspection tool No Yes Yes Yes
Virtual mask aligner tool No Available as option Available as option Yes
Temperature stabilized enclosure No Available as option Available as option Yes
Supplied with vibration isolating optical table No No No Yes
Mask design software Open source KLayout supplied. Clewin available as option Open source KLayout supplied. Clewin available as option Open source KLayout supplied. Clewin available as option Clewin supplied
Can be upgraded? Yes Yes Yes No

Anwendungen

Mikroelektronik und Halbleiter
Spintronics
MEMS / NEMS
Sensoren
Microfluidics und lab-on-a-chip
Nanotechnologie
Materialwissenschaften
Graphen und andere 2-dimensionale Materialien
Laden und Schreiben Video: Laden und Schreiben
Entwickeln und Obersivieren Video: Entwickeln und Obersivieren

Downloads

MicroWriter ML 3 Pro
MicroWriter ML 3 Baby
MicroWriter ML 3 Baby Plus
MicroWriter ML 3 Mesa

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Julien Dumouchel
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