Dünnschicht-Spannungsmesssysteme FLX Flexus

Von Toho Technology

Die Toho-FLX-Dünnschicht-Spannungsmesssysteme bieten die Möglichkeit Filmstress sowie den linearen Ausdehnungskoeffizienten von Dünn- und Dickfilmen auf Silizium-Wafern und anderen Substraten optisch zu messen. Die Messfunktionen sind Industriestandards für Anwendungen in der Massenproduktion sowie in der Forschung, bei denen präzise Untersuchungen an unterschiedlichen Schichten und Substraten durchgeführt werden müssen. Die Messsysteme aus der Serie FLX von Toho arbeiten mit der patentierten "Dual-Wavelength"-Technologie von KLA-Tencor und ermöglichen die genaue Bestimmung und Analyse von Oberflächenspannungen, die durch abgeschiedene Dünnschichten erzeugt werden.

Eigenschaften
  • Verfügbarer Temperaturbereich-65 °C bis 500 °C
  • Patentierte Dual- Wavelength-Technologie für optimale Signalgewinnung
  • Berechnung des Wärmeausdehnungskoeffizienten und des biaxialen Moduls
  • 3D-Darstellung der Probendurchbiegung/Spannungsverteilung
  • Probengrößen von 25 mm bis 300 mm sind möglich

Weitere Informationen

Theorie
Spannungen entstehen, wenn Materialien mit unterschiedlichen thermischen Ausdehnungskoeffizienten miteinander verbunden werden.
Obwohl sich Dünnschichten bei hohen Temperaturen ähnlich verhalten können, führen unterschiedliche Ausdehnungs- oder Schrumpfverhalten beim Abkühlen zu Spannungen in der Schicht. Diese Spannungen können Defekte wie Versetzungen, Hohlräume (Voids) oder Risse verursachen.

Das FLX-System bestimmt die Spannung, indem es die Krümmungsänderung des Substrats vor und nach der Abscheidung der Dünnschicht misst.
Aus der Differenz der Krümmung wird mittels der Stoney-Gleichung die Spannung berechnet.
Die Gleichung stellt einen Zusammenhang zwischen dem biaxialen Elastizitätsmodul des Substrats , der Schichtdicke t, der Substratdicke h sowie dem Krümmungsradius R vor und nach dem Prozess her.

Die Krümmung wird gemessen, indem zwei Laserstrahlen unter einem bekannten Winkel auf die Oberfläche gerichtet werden.
Der reflektierte Strahl trifft auf eine positionssensitive Photodiode. Durch das Abtasten der Oberfläche an definierten Punkten wird die Geometrie der Schicht aufgezeichnet.

Stoney Gleichung:

: Zweiachsiger Elastizitätsmodul des Substrats (Pa); (100) Silizium ergibt 1,805E11 Pa

h: Substratdicke (m)

t: Filmdicke (m)

R: Krümmungsradius des Substrats (m); 1/R = 1/R2 – 1/R1 (R1: Vorderer Krümmungsradius; R2: Hinterer Krümmungsradius)

S: Durchschnittliche Filmspannung (Pa)

Systemdetails
Die Flexus-S-Dünnschichtmesssysteme von Toho Technology ermöglichen Spannungsmessungen im Temperaturbereich von -65 °C bis 500 °C. Während des Beschichtungsvorgangs auftretende Spannungen führen zu Hohlräumen und Rissbildung - die häufigsten Ursachen für einen Ausfall von Elektronik-Bauteilen. Bei der patentierten "Dual-Wavelength"-Technologie von KLA-Tencor wird ein Laserstrahl auf einer Achse oberhalb der Probe bewegt. Der reflektierte Strahl trifft auf eine positionsempfindliche Photodiode. Der Krümmungsradius des Wafer entlang der Achse vor und nach der Abscheidung der Schicht wird durch eine Messung eines Linienscans bestimmt. Auf der Grundlage der Stoney-Gleichung wird dann die Schichtspannung des Wafers berechnet. Durch mehrere Scans entlang verschiedener Achsen kann ein 3D-Abbild der Spannungsverteilung oder Krümmung des Wafer erstellt werden.

Die neuen FLX-R-Systeme sind eine kostengünstige Alternative für Anwendungen, bei denen Temperaturmessungen nicht relevant sind. Neben den Standard-Funktionen verfügen die Systeme über einen automatisierten Drehtisch, der die Probe um einen benutzerspezifisch vorgegebenen Winkel rotiert und mehrere Scans durchführt. Eine 3D-Mapping-Software stellt die dreidimensionale Verteilung der Schichtspannung und der Probendurchbiegung dar.

Die Flexus-Spannungsmesssysteme stehen in zwei Versionen zur Verfügung: Das FLX-2320 für Probengrößen von 25 mm – 200 mm und das FLX-3300 für Probengrößen bis 300 mm.

Spezifikationen

Maximaler Scan Durchmesser/Probengröße

  • 50-200 mm für die FLX-2320 Serie (1 inch auf Anfrage)
  • 200-300 mm für die FLX-3300 Serie

Leistungsmerkmale

  • Messbereich: 1 bis 4000 MPa1 (3500 MPa für das FLX 3300)
  • Wiederholbarkeit: 1.3 MPa
  • Genauigkeit: Weniger als 2.5% or 1 MPa je nachdem, welcher Wert größer ist
  • Minimaler Radius: 2 m
  • Maximaler Radius: 33 km

Messtemperaturen (für FLX-2320-S und FLX-3300-T)

  • Temperaturbereich: -65°C bis 500°C
  • Schutzgas: Stickstoff oder Argon
  • Gasflussrate: 1,5L/min, 0.3 kg/cm²
  • Kühloption: mit flüssigem Stickstoff
  • Heizraten bis 500°C: 25°C/Minute
  • Abkühlrate: 500°C bis 100°C in 1 Stunde, 30 Minuten mit LN²
  • Bestimmung des thermischen Ausdehnungskoeffizienten/biaxialen Moduls dünner Schichten

Anwendungen

In folgenden Anwendungen kann das Flexus Stressmessgerät helfen Fehlerquellen wie Versetzungen, Hohlräume und Risse zu erkennen:

  • Spannungsbedingte Hohlräume in Aluminium
  • Passivierungsrisse (Nitrid, Oxid)
  • Spannungsbedingte Versetzungen in Silizium
  • Verschlechterung der elektrischen Testausbeute
  • Rissbildung in Wolframsilizid
  • Spannungsanstieg in Oxiden bei Temperaturwechselbelastung
  • Verschlechterung im Konstantstrom-Stresstest (CCST)
  • Anpassungsmetallisierungsausdehnung auf GaAs
  • Siliziumrisse aufgrund hoher Filmspannung
  • Oben genannte Probleme bei dicken Filmen (siehe Anwendungshinweis unten)

Downloads

FLX series
FLX Application Note: Thick Film Stress Measurement

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Dr. Tobias Adler
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