Nanoprägelithografie – hochmoderne Volumenfertigung von Nanostrukturen

Neben der bewährten Photo-Lithografie zur Herstellung von Polarisatoren bietet Moxtek nun auch eine hochmoderne NIL-Volumenfertigung auf 8-Zoll-Glas- und Silizium-Wafern an. Die Nanoprägelithografie (englisch: nanoimprint lithography, kurz NIL) ist ein Nanolithografie-Verfahren zur kostengünstigen Herstellung von Nanostrukturen mit einer Auflösung unterhalb der Beugungsgrenze. Hierbei wird mittels eines Stempels die gewünschte Struktur in ein über die Glastemperatur erhitztes Positiv gepresst. Danach wird die Struktur durch Ätzen in das Substrat übertragen.
Basierend auf den Daten von 10.000 bearbeiteten Wafern erreichen die Stempel eine Lebensdauer von 500 bis 750 Drucken, in einigen Tests sogar bis zu 1.300 Drucken. Dabei ist eine Einhaltung der kritischen Abmessung (CD) von 30 nm nachgewiesen. Der Service umfasst den gesamten Produktionsprozess von Masterdesign und -fertigung, Stempelherstellung, Prototyping von Abdrucken bis zur Massenproduktion. Zusätzlich bietet Moxtek natürlich auch DoE und Leaning-Zyklen zur Druckoptimierung zusammen mit statistischer Prozesskontrolle (SPC) zur Überwachung der Wiederholbarkeit der CD nach dem Druck an.
Das NIL-Verfahren ist optimal für die kostengünstige Großserien-Fertigung von funktionellen Mikro- und Nanostrukturen geeignet. Denkbar sind hier beispielsweise Wellenleiter, diffraktive Optiken, Mikrolinsen-Arrays, Photonik-Kristalle sowie andere Meta-Oberflächen in der Display-, Imaging-, AR/MR-, Medizin- oder Automobiltechnik.
Weitere Informationen finden Sie in einem White Paper von Moxtek.

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