Photo Lithographie Systeme

MicroWriter von Durham Magneto Optics (DMO)

Der MicroWriter 3 Pro stellt die neueste Entwicklung unseres langjährigen Lieferanten Durham Magneto Optics (DMO) dar. Er vereint alle Ansprüche die man an ein Photo-Lithographie-System stellt in Kombination mit einem sehr guten Preis-Leistungsverhältnis.

Mit dem MicroWriter Baby stellt DMO eine neue Art von Photo-Lithographie-System vor. Es vereint ein breites Spektrum an Möglichkeiten mit einem unschlagbaren Preis. Es ist klein, leistungsstark und sehr einfach zu bedienen.

Eigenschaften

Hohe Auflösung
Schnelle Schreibgeschwindigkeit
Einfache Handhabung
Kosteneffektiv
Flexible Konfiguration

Weitere Informationen

In der Basisversion verfügt der MicroWriter 3 Pro über eine 385 nm Photodiode, welche für g-, h- und i-Line Resists (Positiv und Negativ und auch SU-8) verwendet werden kann. Der Benutzer kann schnell und einfach per Software zwischen vier Auflösungen wählen: (0.6 µm, 1 µm, 2 µm und 5 µm). Optional steht noch eine Auflösung von 0.4 µm zur Verfügung. Außerdem verfügt der MicroWriter 3 Pro über ein optisches Profilometer und ein automatisiertes Wafer Inspektionstool.

Als zusätzliche Option kann zusätzlich eine 405 nm oder 365 nm Photodiode eingebaut werden sowie eine Backside Alignment Option.

Das Baby, das Baby plus und das Mesa System werden standardmäßig mit einer 405 nm Photodiode bestückt. Diese kann gegen eine 385 nm oder 365 nm Diode ausgetauscht werden.

Jedes der Systeme kann zu einem späteren Zeitpunkt auf das nächste Level aufgerüstet werden was die MicoWriter Familie zu der flexibelsten Plattform für Direktschreib-Lithographie Systeme macht.

Spezifikationen

Microwriter Specification	ML3 Baby	ML3 Baby Plus	ML3 Mesa	ML3 Pro
Maximum substrate size [mm]	155 x 155 x 7	155 x 155 x 7	155 x 155 x 7	230 x 230 x 15
Maximum writing area [mm]	149 x 149	149 x 149	149 x 149	195 x 195
Exposure resolutions [µm]	1	1 and 5	0.6, 1, 5	0.6, 1, 2, 5 (0.4 as option)
Surface tracking autofocus system	Yes	Yes	Yes	Yes
Greyscale lithography	Yes	Yes	Yes	Yes
Alignment microscope objectives	x10	x3 and x10	x3, x10, x20	x3, x5, x10, x20 (x50 as option)
Automatic lens changer for exposure resolution and alignment microscope	No	Yes	Yes	Yes
Backside alignment	No	No	No	Available as option
Exposure wavelength [nm]	405 (385 and 365 as option)	405 (385 and 365 as option)	405 (385 and 365 as option)	385 (365 nm as option)
Maximum writing speed	50 mm²/minute at 1 µm	50 mm²/minute at 1 µm 180 mm²/minute at 5 µm	17 mm²/minute at 0.6 μm, 50 mm²/minute at 1 μm 180 mm²/minute at 5 μm	17 mm²/minute at 0,6 µm, 50 mm²/minute at 1 µm, 120 mm²/minute at 2 µm , 180 mm²/minute at 5 µm
Overlay alignment accuracy at best resolution [µm]	±2	±1	±1	±0,5
Minimum addressable grid [nm]	200	200	100	100
Motion stage minimum XY step size [nm]	15	15	15	4
Optical surface profiler Z resolution [nm]	not applicalble	200	200	100
Automatic wafer inspection tool	No	Yes	Yes	Yes
Virtual mask aligner tool	No	Available as option	Available as option	Yes
Temperature stabilized enclosure	No	Available as option	Available as option	Yes
Supplied with vibration isolating optical table	No	No	No	Yes
Mask design software	Open source KLayout supplied. Clewin available as option	Open source KLayout supplied. Clewin available as option	Open source KLayout supplied. Clewin available as option	Clewin supplied
Can be upgraded?	Yes	Yes	Yes	No