Sistema di litografia laser
MicroWriter di Durham Magneto Optics (DMO)Il Microwriter ML3 Pro è il nuovo sistema di fotolitografia a scrittura diretta di DMO: flessibile e potente, offre tutto ciò che un ricercatore necessita per combinare alta risoluzione e velocità di scrittura.
Il MicroWriter ML3 Baby è il sistema di litografia ottica più piccolo ed economico sul mercato.
- Alta risoluzione
- Alta velocità di scrittura
- Facilità di utilizzo
- Eccellente rapporto qualità/prezzo
- Configurazione flessibile
Maggiori informazioni
Il MicroWriter ML3 funziona con una sorgente a semiconduttore a lunga durata a 385 nm, che può essere utilizzata con resist g-, h- e i-line (positivi, negativi e SU-8). Il sistema fornisce cinque diverse risoluzioni che possono essere facilmente attivate via software (0,4 µm, 0,6 µm, 1 µm, 2 µm e 5 µm) senza intervento manuale. Il MicroWriter ML3 include un profilometro ottico e un sistema di ispezione del wafer.
Inoltre è possibile aggiungere al sistema un'ulteriore sorgente a 405 nm o a 365 nm, oppure un'opzione di allineamento sul retro.
I sistemi Baby, Baby plus e MESA utilizzano una sorgente a 405 nm come standard, che può essere sostituita con una sorgente a 385 nm o a 365 nm.
Ogni sistema può essere upgradato successivamente, il che rende la famiglia MicroWriter la piattaforma di litografia a scrittura diretta più flessibile sul mercato.
Specifiche
| Microwriter Specification | ML3 Baby | ML3 Baby Plus | ML3 Mesa | ML3 Pro |
|---|---|---|---|---|
| Maximum substrate size [mm] | 155 x 155 x 7 | 155 x 155 x 7 | 155 x 155 x 7 | 230 x 230 x 15 |
| Maximum writing area [mm] | 149 x 149 | 149 x 149 | 149 x 149 | 195 x 195 |
| Exposure resolutions [µm] | 1 | 1 and 5 | 0.6, 1, 5 | 0.6, 1, 2, 5 (0.4 as option) |
| Surface tracking autofocus system | Yes | Yes | Yes | Yes |
| Greyscale lithography | Yes | Yes | Yes | Yes |
| Alignment microscope objectives | x10 | x3 and x10 | x3, x10, x20 | x3, x5, x10, x20 (x50 as option) |
| Automatic lens changer for exposure resolution and alignment microscope | No | Yes | Yes | Yes |
| Backside alignment | No | No | No | Available as option |
| Exposure wavelength [nm] | 405 (385 and 365 as option) | 405 (385 and 365 as option) | 405 (385 and 365 as option) | 385 (365 nm as option) |
| Maximum writing speed | 50 mm2/minute at 1 µm | 50 mm2/minute at 1 µm 180 mm2/minute at 5 µm | 17 mm2/minute at 0.6 μm, 50 mm2/minute at 1 μm 180 mm2/minute at 5 μm | 17 mm2/minute at 0,6 µm, 50 mm2/minute at 1 µm, 120 mm2/minute at 2 µm , 180 mm2/minute at 5 µm |
| Overlay alignment accuracy at best resolution [µm] | ±2 | ±1 | ±1 | ±0,5 |
| Minimum addressable grid [nm] | 200 | 200 | 100 | 100 |
| Motion stage minimum XY step size [nm] | 15 | 15 | 15 | 4 |
| Optical surface profiler Z resolution [nm] | not applicalble | 200 | 200 | 100 |
| Automatic wafer inspection tool | No | Yes | Yes | Yes |
| Virtual mask aligner tool | No | Available as option | Available as option | Yes |
| Temperature stabilized enclosure | No | Available as option | Available as option | Yes |
| Supplied with vibration isolating optical table | No | No | No | Yes |
| Mask design software | Open source KLayout supplied. Clewin available as option | Open source KLayout supplied. Clewin available as option | Open source KLayout supplied. Clewin available as option | Clewin supplied |
| Can be upgraded? | Yes | Yes | Yes | No |
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