Optische Meta-Oberflächen & Meta-Linsen

von Moxtek

MOXTEK stellt seit über 20 Jahren nanostrukturierte optische Komponenten her und kann unterschiedlichste Nanostruktur-Bauteile auf Ø200mm-Wafern in Großserie fertigen.

Das Angebot umfasst die Herstellung von funktionalen Nanostrukturen wie Mikrolinsen-Arrays, Wellenleiter, strukturierte Meta-Oberflächen und Meta-Linsen, diffraktive optische Elemente (DOEs), photonische Kristalle und Biosensor-Arrays. Diese Bauelemente für Bildgebungs-, Beleuchtungs- und Anzeigesysteme finden zum Beispiel Verwendung in der Automobilindustrie, in der medizinischen und zahnmedizinischen Bildgebung, in Kamerasystemen und vielen anderen Bereichen.

Eigenschaften

Großserienfertigung
Prototyping-Optionen
NanoImprint-Lithographie (NIL)
Entwurf Master Shuttle
Master-Erstellung, Stempelherstellung
Abscheidung (PECVD, Sputtern, ALD)

Weitere Informationen

Metaoberflächen und Metalinsen bieten ein hohes Potential als Ersatz für klassische optische Bauteile wie Linsen oder Filter. Sie sind eine grundlegend neue Methode der Lichtmanipulation, die auf der Streuung an Nanostrukturen und nicht auf konventioneller Brechung beruht. Damit erlauben sie eine effiziente Phasen-, Polarisations- und Emissionssteuerung.

In Zusammenarbeit mit dem Kunden kann Moxtek Entwürfe überprüfen und Lösungen für die Großserienfertigung entwickeln. Das beinhaltet auch Optionen für schnelle Design-Iterationen und Druckoptimierung. Zur Überwachung der Wiederholbarkeit (post-print Critical Dimension (CD)) nach dem Druck hat Moxtek eine statistische Prozesskontrolle (SPC) etabliert.

Prototyping-Muster können auf Basis eines hauseigenen Design Master Shuttles erstellt werden. Dieser NIL Design Master Shuttle bietet Platz für mehrere (unterschiedliche) Designstrukturen, so dass sie mehrere Designs in einer einzigen Shuttle-Iteration testen können. Damit werden Entwicklungszeit und -kosten deutlich reduziert. Die Design Shuttles werden mehrmals im Jahr aufgelegt. Gerne nehmen wir Ihr Design in das nächste Master Shuttle auf, um Ihr neuestes Objektiv oder optisches Nanostruktur-Bauteil als Prototyp zu entwickeln

Auf mehr als 2.400m² Reinraumfläche bietet Moxtek eine hochmoderne Fertigung auf Ø200-mm-Wafern mit einem jährlichen Volumen von mehreren Hunderttausend Stück.

Fertigungskapazitäten

Großserienfertigung
Prototyping-Optionen
NanoImprint-Lithographie (NIL)
Entwurf Master Shuttle
Master-Erstellung, Stempelherstellung
Abscheidung (PECVD, Sputtern, ALD)
Ätzen (Metalle, Oxide mit niedrigem bis hohem Brechungsindex)
AFM und SEM
Optische Metrologie und Inspektion

Konfigurierbare Parameter

Mindest-CD: 30nm
Master-Aspekt-Verhältnis: ≤ 2 (CD-Höhe/Breite)
Master-Wafer-Typ: Silizium (bevorzugt)
Größe des Master-Wafers: Ø300mm, Ø200mm (bevorzugt) Ø150mm (akzeptabel)
Schichtdicke: 15nm < X < 25nm
Substrat: Ø200mm Glas/geschmolzenes Siliziumdioxid/Silizium/Saphir Dicke: 0,675mm bis 1,8mm
Maske: Sol-Gel auf Oxidbasis, UV-härtbarer oder Nanopartikel-Resist