Kohlebeschichter und Sputter Coater mit Hochvakuum
Q150T Plus -Serie von Quorum Technologies- Vollautomatischer Beschichtungsablauf
(inkl. Prozesslogexport als .csv-Datei über USB) - Eingebaute Turbopumpe, Vakuum bis 5 x 10-5 mbar
- Große Probenkammer Ø 150 mm
- Schnelle Beschichtungszyklen
- TE: Kohlefaden- oder Kohlestabverdampfung, Option zur Metallwiderstandverdampfung
- TS: Sputtern von Edelmetallen und oxidierenden Materialien
- TES: Kombigerät aus Kohlebeschichter und Sputter Coater
- GB: Kombigerät zum Einbau in eine Glovebox
Weitere Informationen
- Q150T E Plus – automatischer Kohlebeschichter mit Option für die Metallverdampfung.
- Q150T S Plus – automatischer Sputter Coater für Edelmetalle und oxidierenden Materialien mit Option zur Beglimmung
- Q150T ES Plus – Kombigerät aus Kohlebeschichter und Sputter Coater
- Q150 GB Plus – Kombigerät aus Kohlebeschichter und Sputter Coater für den Einbau in eine Glovebox
Dünne leitfähige Schichten aus Carbon/Kohlenstoff werden durch Widerstandsverdampfung von Kohlefäden oder -stäben erzeugt. Dabei wird die Kohlenstoffquelle von einem Strom (1-90 A) durchflossen, wodurch sich diese stark erwärmt bis hin zu einer Temperatur bei dem Kohlenstoff verdampft. Die Freisetzung von Kohlenstoff (aus Kohlestab o. Kohlefaden) erfolgt in der Q150T-Serie entweder gepulst oder kontinuierlich. Beide Prozesse können mit und ohne Kontrolle durch einen Schichtdickenmonitor erfolgen. Durch Verwendung von Kohlefäden können Schichtdicken bis zu 20 nm erreicht werden, mit Kohlestäben etwa 3 - 15 nm. Die Schichtqualität ist jedoch, anders als bei der Vorvakuumserie Q150R, nicht vergleichbar. Reproduzierbare hochwertige Kohlenstofffilme für die Hochauflösung, EBSD oder Trägerfilme für TEM-Anwendungen können nur mittels Kohlestabverdampfung erzeugt werden. Funktionsprinzip Magnetron-Sputter Coater
Die Magnetron-Sputter Coater (auch "kaltes Sputtern“) besitzen im Sputterkopf (Kathode), nahe dem Target, einen für diese Anwendung optimierten Magneten. Er hat die Aufgabe auf seinen Feldlinien die bei der Ionisation freiwerdenden Elektronen/ Ionen zu lenken. Dadurch werden
- Elektronen effektivier für eine weitere Ionisierung von Prozessgasionen genutzt
- übermäßige Erwärmung vermieden
- die nutzbare Fläche des Targets optimiert
Spezifikationen
Q150T S / E / ES Plus | |
---|---|
Abmessungen | 585 mm B x 470 mm T x 410 mm H (Höhe mit geöffnetem Kopfteil 650 mm) |
Gewicht | 33.4 kg |
Rezipient | Borosilikatglas 150 mm Ø (innen) x 127 mm H |
Implosionsschutz | Polyethylenterephthalat (PET) - Zylinder |
Bildschirm | 115.5 mm x 86.4 mm (aktive Fläche) kapazitives Touch-Farbdisplay |
Benutzeroberfläche | Intuitive vollständige grafische Oberfläche Touch-Screen, inkl. Log der letzten 1000 Beschichtungsvorgänge und USB-Schnittstelle. |
Sputtertarget | 57 mm Ø x 0.3 mm dickes Chrom (Cr)-Target (nur in TS/TES) |
Vakuum | |
Turbomolekularpumpe | Intern, 70 l/s luftgekühlt |
Drehschieberpumpe | 50 l/min. 2-stufige Drehschieberpumpe mit Ölnebelfilter und Anschlussmaterial – separat zu bestellen AG-DS102 |
Vakuummessung | Pirani-Messröhre (Anzeige bis 1x10-4 mbar danach HI-VAC) |
typisches Endvakuum | ∼5x10-5 mbar* |
Druckbereich Sputtern | Zw. 5x10-3 und 1x10-1 mbar* |
Probenbühne | 50 mm Ø rotierende Bühne. Platz für 6 Probenstubs, 8–20 UPM. Alternative Probenbühnen unter Optionen und Zubehör. |
Anwendungen | |
Sputtern | 0–150 mA Prozesssteuerung mit optionalem Schichtdickenmonitor oder nach programmierter Zeit. Die maximale Sputterzeit beträgt 60 Minuten ohne Bruch des Vakuums. |
Kohleverdampfung | robustes, „ripple free“ Netzteil mit Puls Verdampfung für reproduzierbare Kohlenstoffverdampfung aus Stab- oder Fadenquellen. Stromimpuls: 1–90 A |
Metallverdampfung/ | Für thermische Verdampfung von Drähten oder aus Schiffchen. Zur Reinigung von SEM oder TEM Aperturblenden wird ein Molybdänschiffchen verwendet. Die Metallverdampfung kann von oben nach unten oder unten nach oben erfolgen. |
Weitere Informationen | |
Gase | Argongas, 99.999% (nur TS und TES), Stickstoffgas zur Belüftung (optional). |
Stromversorgung | 90–250 V 50/60 Hz 1400 VA inkl. Drehschieberpumpe. 110/240 V Spannung wählbar. |
Konformität | CE-Konformität: Blindleistungskompensation. Erfüllt die geltenden Vorschriften (CE-Zertifizierung). |
Optionen und Zubehör | |
10879 | Kohlestab-Verdampfungseinsatz für 3,05 mm Ø Stäbe (nur TE und TES). Inklusive Spitzer, Keilwerkzeug und Kohlestäbe 3,05 mm Ø x 300 mm (Packung 10 St.). |
10262 | Glimmentladungs-Einsatz zur Modifizierung von Oberflächeneigenschaften (z.B. hydrophob zu hydrophil) (nur TS und TES), nachrüstbar. |
10726 | Zusätzliches Sputterkopfteil für schnellen Materialwechsel (nur TS und TES). |
10360 | 'Rotacota': planetarische Probenbühne (Drehgeschwindigkeit 8–20 RPM). 50 mm Ø Probentisch mit sechs Stub-Positionen für 15 mm, 10 mm, 6,5 mm oder 1/8" Pin Stubs, neigbar bis 30 °. |
10357 | Dreh-Kipptisch mit sechs Stub-Positionen für 15 mm oder 6,5 mm oder 1/8" Pin Stubs. Neigungen bis 90° von der Horizontalen möglich. |
10458 | Probentisch für 4" Wafer inkl. Exzentergetriebe für großflächige Beschichtung und Einsatz mit Schichtdickenmonitor. |
10454 | Schichtdickenmonitor mit Oszillator, Durchführung, Quarzkristallhalter und 2 Quarzen. |
10429 | Extra hoher Glasrezipient (214 mm h x 165 mm Ø), Implosionsschutz, empfohlen für einen erweiterten Abstand von Beschichtungsquelle zu Probenoberfläche. |
10731 | Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluss, Winkel 90°, drehbar, falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist. |
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