Kohlebeschichter und Sputter Coater mit Vorvakuum
Q150R Plus -Serie von Quorum Technologies- Vollautomatischer Beschichtungsablauf
(inkl. Prozesslogexport als .csv-Datei über USB) - Große Probenkammer Ø 150 mm
- Schnelle Beschichtungszyklen
- Vakuum bis 2 x 10-3 mbar
- RE: Kohlefaden- oder Kohlestabverdampfung, Option zur Metallwiderstandverdampfung
- RS: Sputtern von nichtoxidierenden Metallen (z.B. Gold, Gold/Palladium, Platin)
- RES: Kombigerät aus Kohlebeschichter und Sputter Coater
Weitere Informationen
- Q150R E Plus – automatischer Kohlebeschichter mit Option für die Metallverdampfung.
- Q150R S Plus – automatischer Sputter Coater für Edelmetalle mit Option zur Beglimmung
- Q150R ES Plus – Kombigerät aus Kohlebeschichter und Sputter Coater
Die Magnetron-Sputter Coater (auch "kaltes Sputtern“) besitzen im Sputterkopf (Kathode), nahe dem Target einen für diese Anwendung optimierten Magneten. Er hat die Aufgabe auf seinen Feldlinien die bei der Ionisation freiwerdenden Elektronen/ Ionen zu lenken. Dadurch werden
- Elektronen effektiver für eine weitere Ionisierung von Prozessgasionen genutzt
- übermäßige Erwärmung vermieden
- die nutzbare Fläche des Targets optimiert.
Spezifikationen
Q150R S / E / ES Plus | |
---|---|
Abmessungen | 585 mm B x 470 mm T x 410 mm H (Höhe mit geöffnetem Kopfteil 650 mm) |
Gewicht | 28.4 kg |
Rezipient | Borosilikatglas 150 mm Ø (innen) x 127 mm H |
Implosionsschutz | Polyethylenterephthalat (PET) - Zylinder |
Bildschirm | 115.5 mm x 86.4 mm (aktive Fläche) kapazitives Touch-Farbdisplay |
Benutzeroberfläche | Intuitive vollständige grafische Oberfläche Touch-Screen, inkl. Log der letzten 1000 Beschichtungsvorgänge und USB-Schnittstelle. |
Sputtertarget | 57 mm Ø x 0.1 mm dickes Gold (Au)-Target (nur in R S/R ES) |
Vakuum | |
Drehschieberpumpe | 50 l/min. 2-stufige Drehschieberpumpe mit Ölnebelfilter und Anschlussmaterial – separat zu bestellen AG-DS102. |
Vakuummessung | Pirani-Messröhre |
typisches Endvakuum | ∼2x10-2 mbar* |
Probenbühne | 50 mm Ø rotierende Bühne. Platz für 6 Probenstubs, 8–20 UPM. Alternative Probenbühnen unter Optionen und Zubehör. |
Anwendungen | |
Sputtern | 0–80 mA Prozesssteuerung mit optionalem Schichtdickenmonitor oder nach programmierter Zeit. Die maximale Sputterzeit beträgt 60 Minuten ohne Bruch des Vakuums. |
Kohleverdampfung | robustes, „ripple free“ Netzteil mit Puls Verdampfung für reproduzierbare Kohlenstoffverdampfung aus Stab- oder Fadenquellen. Stromimpuls: 1–70 A |
Beglimmen/ | 100 mA im DC+ Modus und 30 mA in DC-Modus |
Weitere Informationen | |
Gase | Argongas, 99.999% (nur RS und RES) |
Stromversorgung | 90–250 V 50/60 Hz 1400 VA inkl. Drehschieberpumpe. 110/240 V Spannung wählbar. |
Konformität | CE-Konformität: Blindleistungskompensation. Erfüllt die geltenden Vorschriften (CE-Zertifizierung). |
Optionen und Zubehör | |
10879 | Kohlestab-Verdampfungseinsatz für 3,05 mm Ø Stäbe (nur RE und RES). Inklusive Spitzer, Keilwerkzeug und Kohlestäbe 3,05 mm Ø x 300 mm (Packung 10 St.). |
10262 | Glimmentladungs-Einsatz zur Modifizierung von Oberflächeneigenschaften (z.B. hydrophob zu hydrophil) (nur RS und RES), nachrüstbar. |
10726 | Zusätzliches Sputterkopfteil für schnellen Materialwechsel (nur RS und RES). |
10360 | 'Rotacota': planetarische Probenbühne (Drehgeschwindigkeit 8–20 RPM). 50 mm Ø Probentisch mit sechs Stub-Positionen für 15 mm, 10 mm, 6,5 mm oder 1/8" Pin Stubs, neigbar bis 30 °. |
10357 | Dreh-Kipptisch mit sechs Stub-Positionen für 15 mm oder 6,5 mm oder 1/8" Pin Stubs. Neigungen bis 90° von der Horizontalen möglich. |
10454 | Schichtdickenmonitor mit Oszillator, Durchführung, Quarzkristallhalter und 2 Quarzen. |
10429 | Extra hoher Glasrezipient (214 mm h x 165 mm Ø), Implosionsschutz, empfohlen für einen erweiterten Abstand von Beschichtungsquelle zu Probenoberfläche. |
10731 | Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluss, Winkel 90°, drehbar, falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist. |
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